雪花清洗是干冰清洗的另一種形式。
1.主要的區(qū)別是 進(jìn)料不同。2.噴出顆粒大小不同
干冰清洗使用的是干冰固態(tài) ,主要清洗對(duì)象是金屬、硬質(zhì)材料
雪花清洗使用液體CO2或氣體二氧化碳，主要清洗對(duì)象是 塑料、電子、玻璃、紙張、化纖、陶瓷、等
干冰顆粒用于清潔已超過(guò) 30 年。干冰顆粒物流復(fù)雜，價(jià)格高昂，在生產(chǎn)和維護(hù)方面的接受度相當(dāng)不理想。除了高昂的投資和運(yùn)營(yíng)成本以及爆破裝置容易發(fā)生故障外，輸送帶、控制柜、塑料件和拋光工具等敏感部件的損壞也屢見(jiàn)不鮮。盡管干冰噴射與傳統(tǒng)清潔工藝相比具有許多優(yōu)點(diǎn)，但在職業(yè)安全和處理方面的缺點(diǎn)對(duì)許多公司來(lái)說(shuō)非常重要。二氧化碳噴雪更加靈活和成本效益高。操作二氧化碳除雪設(shè)備不需要二氧化碳顆粒和電力。壓縮空氣和液態(tài)二氧化碳由單獨(dú)的瓶子或瓶子束供應(yīng)，每個(gè)瓶子都有一個(gè)立管。也可以為固定應(yīng)用設(shè)置 CO2 罐。二氧化碳噴雪特別適用于敏感表面和自動(dòng)化應(yīng)用。用許多不同的清潔應(yīng)用已被成功展示：
- 從金屬、陶瓷、聚合物和玻璃中去除污染物
- 去除 Si、InP 和 GaAs 晶圓上的顆粒和污點(diǎn)
- 清潔光學(xué)元件，即鍍膜鏡片、激光、IR 和 UV 光學(xué)元件、光纖
- 表面分析前的樣品制備（俄歇、XPS、SIMS 和 AFM）
- 一般實(shí)驗(yàn)室、生產(chǎn)和潔凈室清潔
- 各種基材制備
- 清潔真空系統(tǒng)組件，包括電子和離子光學(xué)器件、波紋管、機(jī)加工零件
- 從微電子和混合電路中去除顆粒
- 大望遠(yuǎn)鏡鏡
- 藝術(shù)修復(fù)和清潔，火災(zāi)后修復(fù)
- 還有很多
- 噴射壓力10-16 bar ,匹敵4-10bar的小型干冰清洗機(jī)
- 噴射壓力為7-10bar,用于清潔硬質(zhì)材料和頑固污垢，匹敵微型干冰清洗機(jī)
- 噴射壓力在5-7bar的圓形和偏平噴嘴用于中等硬度材料和硬材料商的輕度污染
- 噴射壓力在2-5bar 清潔敏感材料，使用射流寬度超過(guò)100mm的扁平噴嘴可以輕柔的清潔表面，可適應(yīng)文丘里噴嘴的應(yīng)用范圍。
- 特殊機(jī)型，可在微觀條件下，調(diào)節(jié)出雪量、粒徑、沖擊力等參數(shù)。
